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    高压微射流均质机

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    高压微射流均质机利用超高压迫使流体以极高流速通过金刚石微通道。物料在容腔内经历剧烈的剪切、空化与高速撞击,从而获得粒径极细且分布均匀的纳米级产物。该技术常能单次处理即达预期效果,并支持从实验室到量产的精确线性放大。其广泛应用于制药、新能源电池材料、生物技术及精细化工等前沿领域。

    设备参数

    基础参数 Basic parameter
    机型 操作压力 处理量 最小样品量 外形尺寸(mm)
    HPMH-6L 可达45,000 PSI (3,100 bar) 可达6 L/H 10 mL 830 × 550 × 650
    HPMH-28L 可达45,000 PSI (3,100 bar) 可达28 L/H 60 mL 1100 × 700 × 1300
    HPMH-90L 可达45,000 PSI (3,100 bar) 可达 195 L/H 不适用 1500 × 1000 × 1300
    量产机 可达45,000 PSI (3,100 bar)(取决于定制配置) 1000+ L/H (取决于定制配置) 不适用 取决于定制配置

    设备亮点

    • 产品功能

      • 高压增压驱动:稳定高压输送,持续高效处理
      • 超高速射流:射流速度超过 1000 m/s
      • 三力协同:高剪切、撞击与空化协同作用
      • 精准均质:灵活调控,实现不同物料的定制化处理
      特点
    • 产品优势

      • 超高压力:最高 45,000 PSI(3,100 bar),突破传统压力上限
      • 高效处理:通常单次循环即可达到目标粒径,缩短生产周期
      • 真正纳米级:深度分散顽固团聚物,D90 可达 40 nm
      • 零金属污染:无运动部件、无研磨介质,避免金属杂质引入
      • 线性放大:从实验室到量产,工艺参数可线性移植,确保产品一致性
      优势